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【2h】

Fabrication of silicon nanotip arrays with high aspect ratio by cesium chloride self-assembly and dry etching

机译：通过氯化铯自组装和干法蚀刻制造具有高纵横比的硅纳米尖端阵列

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作者
Xinshuai Zhang; Jing Liu; Bo Wang; Tianchong Zhang; Futing Yi;
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年度 2014
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1. Fabrication of silicon nanotip arrays with high aspect ratio by cesium chloride self-assembly and dry etching [J] . Xinshuai Zhang, Jing Liu, Bo Wang, AIP Advances . 2014,第3期

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3. Fabrication of silicon nanopillar arrays by cesium chloride self-assembly and wet electrochemical etching for solar cell [J] . Jing Liu, Xinshuai Zhang, Gangqiang Dong, Applied Surface Science . 2014,第jana15期

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